Semiconductor Wet Cleaning Solutions

半导体制造前工程中的
湿法清洗解决方案。

至纯株式会社专注于半导体晶圆清洗设备,凭借高度专业性与持续的研发创新,为客户的制造工艺提供支持。

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Strength

我们的优势

专业化的技术实力

我们专注于半导体晶圆清洗设备,可支持PR-Strip、Pre/Post clean、Nitride remove等多种应用。

持续的研发创新

作为至纯集团的一员,我们在各个方面践行高度专业性与持续研发创新,致力于为客户提供满意的产品。

全球网络

通过由杰出专业人才组成的全球网络,为客户提供高度专业化的产品与服务。

Products

产品信息

Wet Station

ULTRON B300

50片批处理式300毫米晶圆湿法清洗设备

  • 无卡匣类型
  • 内部缓冲容量:16 FOUP
  • 支持PR-strip、Pre/Post clean、Nitride remove、Metal Etching等多种湿法清洗应用
  • 占地面积小
  • 无水痕、干燥性能优异的IPA干燥机
  • 支持OHT/AGV
Wet Station

ULTRON B200

50片批处理式200毫米晶圆湿法清洗设备

  • 无卡匣类型
  • 支持PR-strip、Pre/Post clean、Nitride etch、Metal Etching等多种湿法清洗应用
  • 支持SMIF pod
  • 配备背部传送带
  • 无水痕、干燥性能优异的IPA干燥机

本地维护服务

我们从半导体清洗设备的安装到维护服务,提供一体化支持。

Company

公司概况

我们作为至纯集团的一员,负责晶圆清洗这一专业领域。我们在各个方面践行高度专业性、持续研发与创新,始终为客户提供满意的高度专业化产品与服务。

所在地日本冈山县浅口市金光町佐方98-1
电话号码0865-54-0077
注册资本8,500万日元
成立时间2018年7月
营业时间9:00〜17:30(节假日除外)
员工人数30名

2022年11月,工厂搬迁至日本冈山县金光町。

Careers

招聘信息

工作内容

  • 制造:设备组装
  • 机械设计:设备机械、配管整体设计
  • 电气硬件设计:设备电气硬件整体设计
  • 软件设计:设备PLC控制、操作画面设计
  • 行政:总务、财务

福利待遇

  • 各类保险齐全
  • 完全双休制(周六日、节假日)
  • 年假、特别假(婚丧嫁娶、事故等)
  • 暑假、育儿假、护理假、看护假等

招聘职位:机械设计、电气硬件设计、软件设计
请通过以下邮箱或咨询表单申请:jinji@pnc-j.co.jp

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